薄膜生長模式(Modes of thin-film growth)指的是薄膜在材料表面的外延成長中不同的生長機制,由恩斯特·鮑爾於1958年系統化地歸納為三大類型[1]:島狀生長模式(即Volmer-Weber模式)、層狀生長模式(即Frank–van der Merwe模式)和島狀/層狀生長模式(即斯特蘭斯基-克拉斯坦諾夫模式)[注 1]。
基本生長模式
島狀生長模式又稱Volmer-Weber模式、VM模式,得名於馬克斯·福爾默和A. 韋伯[4]。在島狀生長中,薄膜原子相互之間的束縛力強於襯底對薄膜原子的束縛力,導致薄膜原子在襯底表面直接成核生長出三維的原子島[5]。大部分薄膜都是呈島狀生長的[6]。
層狀生長模式又稱Frank–van der Merwe模式、FM模式,得名於弗雷德里克·查爾斯·弗蘭克和Jan H van der Merwe[7][8][9]。在層狀生長中,襯底對薄膜原子的束縛力強於薄膜原子之間的作用力,導致薄膜遵循嚴格的二維生長——即直到完全生長完一層,下一層才開始生長[5]。層狀生長模式在PbSe/PbS、Au/Pd、Fe/Cu等系統中有出現[6]。
島狀/層狀生長模式又稱斯特蘭斯基-克拉斯坦諾夫模式、SK模式,得名於伊萬·斯特蘭斯基和 Lyubomir Krastanov[10]。島狀/層狀生長模式介於島狀生長模式與層狀生長模式之間:在襯底上以二維方式生長一定厚度的薄膜之後,會開始以三維形式生長原子島。[5]島狀/層狀生長模式在Cd/W、Cd/Ge等系統中出現[6]。
理論解釋
不同的薄膜生長模式取決於薄膜和襯底材料表面的化學與物理性質,例如表面張力和晶格係數[11][12][5],可通過考慮距離表面最近的幾層原子的化學勢來確定生長機制[12][13]。1995年,伊萬·馬爾可夫提出原子層內單原子的化學勢模型[13]:
其中 表示吸附材料的體化學勢(bulk chemical potential), 表示浸潤層吸附原子的脫附能(desorption energy), 表示襯底吸附原子的脫附能, 表示每個原子的位錯錯配能(misfit dislocation energy), 表示每個原子的同質應變能(homogeneous strain energy)。在一般情況下,、、 和 的值與薄膜的厚度,以及襯底和薄膜之間的位錯有着極為複雜的關係。在應變很小的情況下(即 ),薄膜的生長模式取決於 的值:
實驗測量
在實際的科學實驗中,可以運用多種手段判斷薄膜生長的模式,包括透射電子顯微鏡或掃描隧道顯微鏡(直接測量表面形貌),低能電子衍射或反射式高能電子衍射(通過測量衍射強度的振盪),以及俄歇電子能譜[5]。
注釋
參考文獻
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