斯特蘭斯基-克拉斯坦諾夫生長

斯特蘭斯基－克拉斯坦諾夫生長簡稱S-K生長，是薄膜在結晶表面磊晶成長的三種主要模式之一。此生長機制包含兩個過程：首先在基板上吸附成薄膜並開始層狀累積，達到臨界厚度時，會因應力和化學能導致薄膜轉變為島狀成長模式^[1][2][3][4] 。S-K生長最早由伊萬·斯特蘭斯基和Lyubomir Krastanov在1938年發現^[5]。直到1958年，S-K生長模式、Volmer-Weber生長模式和Frank–van der Merwe生長模式才被恩斯特·鮑爾（Ernst Bauer）在他的著作中正式歸類為薄膜成長的三大主要機制。^[6]

參考資料

1. Venables, John. Introduction to Surface and Thin Film Processes. Cambridge: Cambridge University Press. 2000. ISBN 0-521-62460-6.
2. Pimpinelli, Alberto; Jacques Villain. Physics of Crystal Growth. Cambridge: Cambridge University Press. 1998. ISBN 0-521-55198-6.
3. Oura, K.; V.G. Lifshits; A.A. Saranin; A.V. Zotov; M. Katayama. Surface Science: An Introduction. Berlin: Springer. 2003. ISBN 3-540-00545-5.
4. Eaglesham, D.J.; M. Cerullo. Dislocation-free Stranski-Krastanow growth of Ge on Si(100). Physical Review Letters. April 1990, 64 (16): 1943–1946. Bibcode:1990PhRvL..64.1943E. doi:10.1103/PhysRevLett.64.1943.
5. Ivan N. Stranski and Lubomir Krastanow, (1938) Abhandlungen der Mathematisch-Naturwissenschaftlichen Klasse IIb.
6. Bauer, Ernst. Phaenomenologische Theorie der Kristallabscheidung an Oberflaechen I.. Zeitschrift für Kristallographie. 1958, 110: 372–394. Bibcode:1958ZK....110..372B. doi:10.1524/zkri.1958.110.1-6.372.