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超纯水（Ultrapure water）极为接近高纯度的水，即除了氢离子与氢氧根离子，几乎没有任何其他电解质存在的水。在制造处理过程后能尽可能将溶在水中或在水中散播的各种杂质除去，包含像是 有机物、细菌、尘埃、氧化物 等任何物质。[1]
 | 此条目需要补充更多来源。 (2015年3月22日) |
根据半导体产业的发展，随著制程的开发，使得晶圆线路更加细致，所使用的清洗用水，也需要更加提升。为了介于以往的纯水名称，故命名为超纯水。 电阻率约达到18.2MΩ-cm，几乎不能导电，依据电子行业超纯水标准，还有很多其他的指标要求。
超纯水系统是指系统从原水至超纯水完整产生之生产系统。那一般超纯水系统是经由多重过滤，离子交换，除气，逆渗透，紫外线，超滤，奈米滤，离子吸附过滤所产生超纯水。[1]:p.35
超纯水主要使用在晶圆洗净，将经过蚀刻之晶圆进行洗净，去除晶圆表面残留氢氟酸等溶液。
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