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武智敏（日语：武智 敏／たけち さとし Takechi Satoshi）是一名日本化学工程师，目前担任富士通半导体部门的部长。他因开发用于LSI制造的ArF准分子激光光微影技术的实用感光树脂（光阻剂）而知名。
 | 此条目翻译品质不佳。 (2025年1月4日) |
LSI是利用微影技术将电路图案曝光到晶圆上的光阻剂而制成。然而，在制造100nm以下的精细电路图案时，由于传统光阻剂对ArF光具有强吸收性，因此无法有效曝光电路图案。这使得缺乏适用于ArF光的光阻剂成为LSI制造的一大挑战。
武智首次在全球发现，含有环状碳结构的“金刚烷基”对ArF光透明，且适合作为光阻材料。为了解决金刚烷基因高疏水性引起的问题，他开发出“可脱离型金刚烷基”与“高亲水性内酯基”，成功实现了适用于ArF光的高性能光阻剂。这项技术从1997年起在光阻剂制造商中开始工业化，成为全球高效能、低功耗LSI制造的标准技术[1]。
如今，该技术已成为世界标准，专利引用次数极高。此光阻材料的市场规模达到每年超过300亿日圆，使用该光阻剂生产的LSI在全球约20兆日圆的半导体市场中占据每年约10兆日圆的市场规模[2]。
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