四フッ化ケイ素

四フッ化ケイ素
	IUPAC名 Silicon tetrafluoride
	別称四フッ化シラン; フッ化ケイ素
識別情報
CAS登録番号	7783-61-1
RTECS番号	VW2327000
	SMILES FSi(F)(F)F;
特性
化学式	SiF4
モル質量	104.08 g/mol
外観	無色気体; （湿度が高いと発煙）
密度	1.66 g/cm3（-95℃、固体）
融点	-86℃
沸点	-95.5℃で昇華（1 atm）
水への溶解度	加水分解
粘度	? cP（?℃）
構造
分子の形	正四面体
双極子モーメント	0 D
危険性
主な危険性	有毒気体、腐食性
NFPA 704	0 3 2
Rフレーズ	R14 R26/27/28 R31 R34
Sフレーズ	S23 S26 S36/37/39 S45
関連する物質
関連物質	四塩化ケイ素 SiCl4; シラン SiH4; ヘキサフルオロケイ酸 H2SiF6
	特記なき場合、データは常温 (25 °C)・常圧 (100 kPa) におけるものである。

四フッ化ケイ素（しフッかケイそ）は分子式がSi F₄で表される化合物である。分子の形は正四面体であり、沸点と融点は4℃しか離れていない。1812年にデービー (John Davy)によって初めて合成された^[1]。

概要四フッ化ケイ素, 識別情報 ...

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SiF₄はリン酸塩肥料の副生成物である。また、気体のフッ化水素HFとケイ酸塩との反応からも得られる。実験室ではBaSiF₆固体を300℃以上に加熱して揮発性のSiF₄とBaF₂とに分解することで得られる。必要なBaSiF₆はヘキサフルオロケイ酸H₂SiF₆の水溶液と塩化バリウムとから得られる^[2]。相当する量のGeF₄を用いても同様にして得られる（ただし熱処理には700℃を要する）^[3]。

揮発性が高く、マイクロ電子工学と有機合成化学においてわずかな利用例があるだけである^[4]。

火山ガスは大量の四フッ化ケイ素を含み、産出量は1日あたり数トンに及ぶ^[5]。四フッ化ケイ素は部分的に加水分解されヘキサフルオロケイ酸を形成する。

[1]
John Davy (1812). “An Account of Some Experiments on Different Combinations of Fluoric Acid”. Philosophical Transactions of the Royal Society of London 102: 352-369.
[2]
Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. “Silicon Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 145-6, 1953.
[3]
Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. "Germanium Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 147-8, 1953.
[4]
Shimizu, M. "Silicon(IV) Fluoride" Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2001 John Wiley & Sons. DOI: 10.1002/047084289X.rs011
[5]
T. Mori, M. Sato, Y. Shimoike, K. Notsu (2002). “High SiF4/HF ratio detected in Satsuma-Iwojima volcano's plume by remote FT-IR observation”. Earth Planets Space 54: 249-256.

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[1] [1]
John Davy (1812). “An Account of Some Experiments on Different Combinations of Fluoric Acid”. Philosophical Transactions of the Royal Society of London 102: 352-369.

[2] [2]
Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. “Silicon Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 145-6, 1953.

[3] [3]
Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. "Germanium Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 147-8, 1953.

[4] [4]
Shimizu, M. "Silicon(IV) Fluoride" Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2001 John Wiley & Sons. DOI: 10.1002/047084289X.rs011

[5] [5]
T. Mori, M. Sato, Y. Shimoike, K. Notsu (2002). “High SiF4/HF ratio detected in Satsuma-Iwojima volcano's plume by remote FT-IR observation”. Earth Planets Space 54: 249-256.

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四フッ化ケイ素

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生成

利用

産出

参考文献

四フッ化ケイ素


IUPAC名 Silicon tetrafluoride
別称四フッ化シランフッ化ケイ素
識別情報
CAS登録番号	7783-61-1
RTECS番号	VW2327000
SMILES FSi(F)(F)F
特性
化学式	SiF₄
モル質量	104.08 g/mol
外観	無色気体（湿度が高いと発煙）
密度	1.66 g/cm³（-95℃、固体）
融点	-86℃
沸点	-95.5℃で昇華（1 atm）
水への溶解度	加水分解
粘度	? cP（?℃）
構造
分子の形	正四面体
双極子モーメント	0 D
危険性
主な危険性	有毒気体、腐食性
NFPA 704	0 3 2
Rフレーズ	R14 R26/27/28 R31 R34
Sフレーズ	S23 S26 S36/37/39 S45
関連する物質
関連物質	四塩化ケイ素 SiCl₄ シラン SiH₄ ヘキサフルオロケイ酸 H₂SiF₆
特記なき場合、データは常温 (25 °C)・常圧 (100 kPa) におけるものである。