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Lithographie extrême ultraviolet
procédé de photolithographie assez semblable aux procédés de lithographie classiques actuels2 . Il utilise un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de l'ordre de 10 à 15 nanomètres (rayons X-mous) / De Wikipedia, l'encyclopédie encyclopedia
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La lithographie extrême ultraviolet ou lithographie EUV est un procédé de photolithographie assez semblable aux procédés de lithographie classiques actuels[2]. Il utilise un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de l'ordre de dix à quinze nanomètres (le rayonnement EUV avoisine donc la gamme des rayons X-mous), en remplaçant les objectifs (ou masques dits « en transmission ») par une série de miroirs de précision (exemple des masques dits « en réflexion »). Il permet ainsi une résolution inférieure à 45 nm. C’est une technologie prometteuse pour le développement industriel des gravures inférieures à 10 nm.
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