Dépôt chimique en phase vapeur
procédé utilisé pour le dépôt en couche mince de revêtement de surface / De Wikipedia, l'encyclopédie encyclopedia
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Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux.