Gasphasenzersetzung
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Die Gasphasenzersetzung (englisch vapour phase decomposition, VPD) ist eine Probenpräparationsmethode der Analytischen Chemie zur Konzentrierung von vorrangig metallischen Verunreinigungen auf (Silizium-)Proben. Sie wird unter anderem in der Halbleiterindustrie verwendet, um die Empfindlichkeit der Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse (TXRF) oder anderer analytischer Verfahren zu verbessern. Entwickelt wurde das Verfahren 1984 von Mitarbeitern der Firma Toshiba.[1]