tipus de transistor utilitzat en circuits integrats nanoelectrònics From Wikipedia, the free encyclopedia
FinFET (acrònim de fin field-effect transistor) és un tipus de transistor d'efecte camp de tecnologia 3D (procés no planar) i substracte silici sobre aïllant (SOI), emprat en la fabricació dels actuals microprocessadors. Els transistors FinFET aconsegueixen menor superfície en el dau de silici, a més a més de major velocitat de commutació i menor consum de potència. El FinFET va ser concebut el 2001 a la universitat de Califòrnia, Berkeley, pels investigadors Chenming Hu, Tsu-Jae King-Liu i Jeffrey Bokor.[1][2][3][4]
Paràmetre | Detall |
---|---|
Superfície en SI | Permet implementar transistors per sota dels 22 nm (actualment estan a 5 nm) |
Consum de potència | Reducció significativa del consum elèctric. |
Tensió d'operació | Permet treballar per sota 1V. |
Corrent de pèrdues | Reducció típica del 90%. |
Velocitat d'operació | Millora típica del 30%. |
GAAFET (gate-all-around FET) o transistor FET de porta envoltada és similar al concepte de FinFET amb la diferència que el material qui forma la porta envolta la regió del canal.[6] GAAFET són els successors dels FinFET per a implementar les tecnologies per sota de 7nm.[7]
Empresa | Data | Tecnologia
FinFET |
---|---|---|
GlobalFoundries | 2012 | 14 nm |
TSMC | 2014 | 16 nm |
AMD | Abril 2017 | 14 nm |
Samsung | Març 2017 | 14 nm |
TSMC | setembre 2017 | 10 nm |
Seamless Wikipedia browsing. On steroids.
Every time you click a link to Wikipedia, Wiktionary or Wikiquote in your browser's search results, it will show the modern Wikiwand interface.
Wikiwand extension is a five stars, simple, with minimum permission required to keep your browsing private, safe and transparent.