Raster-Kelvin-Mikroskopie
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Die Raster-Kelvin-Mikroskopie (oft KPFM oder KFM abgekürzt vom englischen Begriff Kelvin (Probe) Force Microscopy, manchmal auch SKPM – Scanning Kelvin Probe Microscopy) ist ein Verfahren zur Messung des lokal aufgelösten Oberflächenpotentials einer Probe. Entwickelt wurde die von der Rasterkraftmikroskopie (AFM) weiterentwickelte Messmethode durch Nonnenmacher, O’Boyle und Wickramasinghe in den 1990er Jahren[1]. Neben klassischen materialwissenschaftlichen Fragestellungen wie z. B. im Bereich der Solarzellenentwicklung oder Korrosionsforschung wird KPFM inzwischen auch mehr und mehr im Bereich der Biologie angewendet.