保护基
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保护基（protecting group，或protective group）是有机合成的一种策略，在多步骤有机合成中起重要作用[1]。保护基将部分其它官能团可逆地转化为惰性基团，以抑制副反应发生，且不大干扰目标官能团发生特定反应。常需要保护的官能团包括羟基、氨基、羰基等。
一方面，保护基提高了有机合成的可操作性和准确性，人们得以合成更加复杂的分子；另一方面，在上保护基、去保护基的同时，合成路线增长，总产率下降[2]。在可预见的未来，保护基仍将于有机化学中扮演重要角色。
常见的保护基
保护基的脱除条件
- 叔丁氧羰基(tert-butoxycarbonyl) 缩写t-Boc 在以下条件稳定：H2/Pd或碱 除去条件： HBr+CH3COOH或CF3COOH
- 苄氧羰基(carbobenzoxy) 缩写CBz 在以下条件稳定：CF3COOH或碱 除去条件：HBr+CH3COOH或H2/Pd
- 2-联苯基-2-丙氧羰基(2-biphenyl-2-propoxycarbonyl) 缩写BPoc 在以下条件稳定：碱 除去条件：CF3COOH或HCOOH，CF3COOH或HBr
- 邻苯二甲酰亚胺基(phthaloyl) 在以下条件稳定：Na-NH3,H2/Ph,HCl或HBr+CH3COOH 除去条件：NH2NH2-H2O
- 对甲苯磺酰基(p-toluenesulfonyl) 缩写Tosyl 在以下条件稳定：HBr+CH3COOH或碱 除去条件：Na-NH3
- 三苯甲基(triphenylmethyl) 缩写Trityl 在以下条件稳定：碱 除去条件：H2/Pd或CF3COOH（80%）
- 甲酰基(formyl) 在以下条件稳定：H2/Pd或Na-NH3 除去条件：NH2NH2+醇+碱
- 三氟乙酰基(trifluoroacetyl) 在以下条件稳定：CF3COOEt 除去条件：温和碱性条件
参考资料
参见
外部連結
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