350納米製程

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350納米製程,又稱0.35微米製程,是半導體製造製程的一個水平,大約於1995年至1996年左右達成。[1][2] 這一製程由當時領先的半導體公司如英特爾IBM所完成。

具有350納米製程的產品

參考文獻

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