130納米製程維基百科,自由的 encyclopedia 130納米製程,又稱0.13微米製程,是半導體製造製程的一個水平,大約於2000年至2001年左右達成。[1][2] 這一製程由當時領先的半導體公司如英特爾、德州儀器、IBM和台積電所完成。 一些CPU最初是由這個製程所製造。其中包括英特爾奔騰III Tualatin處理器。這是第一個溝道長度小於用於光刻的光的波長的製程。
130納米製程,又稱0.13微米製程,是半導體製造製程的一個水平,大約於2000年至2001年左右達成。[1][2] 這一製程由當時領先的半導體公司如英特爾、德州儀器、IBM和台積電所完成。 一些CPU最初是由這個製程所製造。其中包括英特爾奔騰III Tualatin處理器。這是第一個溝道長度小於用於光刻的光的波長的製程。