光罩(英語:Reticle, Mask):在製作積體電路的過程中,利用光蝕刻技術,在半導體上形成圖型,為將圖型複製於晶圓上,必須透過光罩作用的原理[1]。比如沖洗照片時,利用底片將影像複製至相片上。

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一片光罩的展示品

結構

  • 實體結構:佈滿積體電路圖像的金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。
  • 倍縮光罩(Reticle):在投影式微影機中,光罩作為一個光學元件位於會聚透鏡(condenser lens)與投影透鏡(projection lens)之間,它並不和晶圓有直接接觸。光罩上的圖形縮小4~10倍(現代微影機一般都是縮小4倍)後透射在晶圓表面。為了區別接觸式曝光中使用的光罩,投影式曝光中使用的光罩又被稱為倍縮式光罩(reticle)。
  • 光罩(Mask):當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。

種類

相位移光罩、二元光罩

參考文獻

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