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Photoresist
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光刻胶
光刻胶(英語:
photoresist
),亦稱為光阻或光阻劑,是指經過紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射後,溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中的关键材料,主要应用于積體电路和離散元件的细微图形加工。 光刻根据在显影过程中曝光区域的去除或保留可分为兩種-正性光刻胶(positive
二环己基甲酮
Chemically amplified polymer having pendant group with dicyclohexyl for
photoresist
composition. PCT Int. Appl., 2004. WO 2004042477. Montana, Angel M.;
高分子材料
高分子材料是由相对分子质量较高的化合物构成的材料。我们接触的很多天然材料通常是高分子材料组成的,如天然橡胶、棉花、人体器官等。人工合成的化学纤维、塑料和橡胶等也是如此。一般称在生活中大量采用的,已经形成工业化生产规模的高分子为通用高分子材料,称具有特殊用途与功能的为功能高分子。 高分子是生命存在的形