蚀刻

此条目介绍的是在玻璃表面上创作的技术。关于半导体制程，请见“蚀刻 (半导体)”。

蚀刻是指以酸性、腐蚀性或有研磨效用的物质在玻璃表面上创作的技术。传统上，这段过程是在玻璃吹制好或铸好之后进行的。

班克菲尔德博物馆（英语：Bankfield Museum）的186个蚀刻玻璃

1920年代，人们发明一种新的模刻技术，即将图案直接刻在铸模上。所以当铸模好了之后，图案就已经在玻璃的表面上了。这项技术降低了制作成本，且结合彩色玻璃的广泛运用导致了1930年代便宜花瓶的出现，这些花瓶后来被称之为“Depression glass”。因为用在此过程中的酸剂很危险，现在大多是使用研磨的方法。

半导体蚀刻

主条目：蚀刻 (半导体)

到了近代，现在的蚀刻应用在半导体的制程上，透过黄光制程来定义出想要的图形，利用蚀刻来得到。

半导体的蚀刻可分为干式蚀刻与湿式蚀刻：

• 干式蚀刻：透过等离子的解离，形成离子与物质表面进行化学反应或是物理轰击，属于非等向性的蚀刻。
• 湿式蚀刻：利用化学的液体与物质进行化学反应。属于等向性的蚀刻。常用的蚀刻方式有：
  • 浸入式：将板浸入蚀刻液中，用排笔轻轻刷扫。
  • 泡沫式：用压缩空气将蚀刻液吹成泡沫，对板进行腐蚀。
  • 泼溅式：用离心力将蚀刻液泼溅到覆铜板上。
  • 喷淋式：用蚀刻机的塑料泵将蚀刻液氯化铁压送到喷头，呈雾状微粒高速喷淋到由传送带运送的覆铜板上，进行连续蚀刻。^[1]

参见

• 雕版