Immersion lithography

7奈米以前的製程使用248或193奈米波長的光做為光源來進行微影。早期市面上DUV微影製程機台的供應商以Canon以及Nikon為主, 浸润式光刻（英语：Immersion lithography）出現後DUV微影製程機台改由艾司摩爾所獨霸。 微影製程中若想要優化電路圖案(Pattern)的解析度有兩種做法，一是增加數值孔徑

艾司摩爾 （英語：ASML Holding N.V.，Advanced Semiconductor Materials Lithography）是一間位於荷蘭恩荷芬的半導體設備製造商。公司同時在歐洲和美國NASDAQ上市。全球員工有40,000多名。在世界16個國家提供服務。艾司摩爾公司的主力產品

bug”的影響能夠減低，此處理器可以超頻至更高程度。 6個AMD K10核心 45 nm SOI with Immersion Lithography and Low-k insulator L1 快取記憶體: 每一個核心64 kB + 64 kB (data + instructions)

2021年4月，中芯國際在梁孟松与他的台籍团队主导下，基於現有艾司摩爾浸润式光刻（英语：Immersion lithography）DUV微影製程機台技術，开始用N+1工艺量产7纳米芯片，中芯也成为继台积电和三星之后，全球第3家能量产7纳米制程的芯片厂。但为

future of subhalf-micrometer optical lithography". Microelectronic Engineering 6, 31–51 Handy, Jim. Father of Immersion Litho Receives Award. Forbes. 26 June