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甲鍺烷是鍺烷(GenH2n+2)中最簡單的一種,分子式為GeH4。和同族的甲烷、甲矽烷一樣,甲鍺烷也是正四面體結構。甲鍺烷在空氣中燃燒生成二氧化鍺和水。
甲鍺烷 | |||
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IUPAC名 germane | |||
別名 | 四氫化鍺 | ||
識別 | |||
CAS編號 | 7782-65-2 | ||
PubChem | 23984 | ||
ChemSpider | 22420 | ||
SMILES |
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InChI |
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InChIKey | QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYAE | ||
UN編號 | 2192 | ||
ChEBI | 30443 | ||
KEGG | C15472 | ||
性質 | |||
化學式 | GeH4 | ||
摩爾質量 | 76.62 g·mol⁻¹ | ||
外觀 | 無色氣體 | ||
密度 | (氣)3.3 * 103 | ||
熔點 | −165 °C (108 K) | ||
沸點 | −88 °C (195 K) | ||
溶解性(水) | 難溶 | ||
結構 | |||
分子構型 | 正四面體 | ||
偶極矩 | O D | ||
危險性 | |||
主要危害 | 有毒,可燃 | ||
NFPA 704 | |||
閃點 | 可燃氣體 | ||
相關物質 | |||
其他陰離子 | 四氯化鍺 | ||
相關氫化物 | 甲烷、甲矽烷、甲錫烷、鉛烷 | ||
若非註明,所有數據均出自標準狀態(25 ℃,100 kPa)下。 |
甲鍺烷可通過以下方法合成:
甲鍺烷在600K時分解為鍺和氫氣。這種對熱不穩定性被用於半導體工業中,即有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD)[4]。由於甲鍺烷毒性較大,某些有機鍺化合物(如異丁基鍺)可以替代甲鍺烷,應用於MOCVD中[5]。
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