極紫外光微影製程維基百科,自由的 encyclopedia 極紫外光微影(英語:extreme ultraviolet lithography,中國大陸稱為極紫外光刻,台灣稱為極紫外光微影,簡稱「EUV」或「EUVL」)又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影技術,目前用於7納米以下的先進製程,於2020年得到廣泛應用[1][2][3][4] 。 此條目可參照英語維基百科相應條目來擴充。 (2018年5月29日) 極紫外光微影的成像機制
極紫外光微影(英語:extreme ultraviolet lithography,中國大陸稱為極紫外光刻,台灣稱為極紫外光微影,簡稱「EUV」或「EUVL」)又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影技術,目前用於7納米以下的先進製程,於2020年得到廣泛應用[1][2][3][4] 。 此條目可參照英語維基百科相應條目來擴充。 (2018年5月29日) 極紫外光微影的成像機制