X光散射技術維基百科,自由的 encyclopedia X光散射技術或X射線繞射技術(英語:X-ray scattering techniques)是一系列常用的非破壞性分析技術,可用於揭示物質的晶體結構、化學組成以及物理性質。這些技術都是以觀測X射線穿過樣品後的散射強度為基礎,並根據散射角度、極化度和入射X光波長對實驗結果進行分析。X光散射技術可在許多不同的條件下進行分析,例如不同的溫度或壓力。 這幅圖所顯示的是晶體的X光繞射花樣,所用晶體為一蛋白質晶體。圖中的每一個黑點反映為一個繞射點,這些繞射點是由被晶體散射的X光相互干涉而形成。
X光散射技術或X射線繞射技術(英語:X-ray scattering techniques)是一系列常用的非破壞性分析技術,可用於揭示物質的晶體結構、化學組成以及物理性質。這些技術都是以觀測X射線穿過樣品後的散射強度為基礎,並根據散射角度、極化度和入射X光波長對實驗結果進行分析。X光散射技術可在許多不同的條件下進行分析,例如不同的溫度或壓力。 這幅圖所顯示的是晶體的X光繞射花樣,所用晶體為一蛋白質晶體。圖中的每一個黑點反映為一個繞射點,這些繞射點是由被晶體散射的X光相互干涉而形成。