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Sputter coating
来自维基百科,自由的百科全书
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溅射
溅射(sputtering),也称溅镀(
sputter
deposition/
coating
),是一种物理气相沉积技术,指固體靶"target"(或源"source")中的原子被高能量離子(通常來自等離子體)撞擊而離開固體進入氣體的物理过程。 溅射一般是在充有惰性气体的真空系统中,通过高压电场的作用
薄膜光学
在製造上,薄膜層可以由在基質(一般是玻璃)上沉積一層至多層薄膜而產生,一般會用像蒸發或溅射淀积(英语:
sputter
deposition)等物理气相沉积方式,或是化学气相沉积法。 這類的薄膜常用來作光學鍍膜(英语:optical
coating
),像是家用或車用的低輻射玻璃、玻璃上的增透膜、汽車車頭燈的反光擋板,以及高精
高熵合金
Erik. Multicomponent Hf-Nb-Ti-V-Zr nitride coatings by reactive magnetron
sputter
deposition. Surface and Coatings Technology. 2018-09-15, 349: 529–539.
钽
M.; Cote, P. Texture, structure and phase transformation in
sputter
beta tantalum
coating
. Surface and Coatings Technology. 2004,. 177–178: 44. doi:10