Plasma processing

请检查|date=中的日期值 (帮助)[永久失效連結] Coburn, J. W. Plasma-assisted etching. Plasma Chemistry and Plasma Processing. 1982, 2 (1): 1–41. doi:10.1007/BF00566856

电浆技术（可参考电浆制程（英语：Plasma processing）） 微波等离子体辅助化学气相沉积（Microwave plasma-assisted CVD，MPCVD） 等离子体增强化学气相沉积法（Plasma-Enhanced

Francis F. Plasma Physics and Controlled Fusion. Plenum Press. 1984. ISBN 978-0-306-41332-2.  Leal-Quirós, Edbertho. Plasma Processing of Municipal

Principles of plasma discharges and material processing, Ed. New York: John Wiley and Sons, 1994. W. Ensinger, “Semiconductor processing by plasma immersion

電漿顯示器（英文：Plasma Display Panel），平面顯示器技術的一種，顯示原理與日光燈、霓虹燈等氣體放電、發光技術類似，但精細至每個原色像素皆可獨立放電，在大尺寸市場獨具優勢。 分布式并行处理（英文：Parallel Distributed Processing），人工智能领域的一种理论。