光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作集成電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理[1]。比如沖洗照片時，利用底片將影像複製至相片上。
結構
- 實體結構：佈滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。
- 倍縮光罩（Reticle）：在投影式光刻機中，掩模作為一個光學元件位於會聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它並不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍（現代光刻機一般都是縮小4倍）後透射在晶圓表面。為了區別接觸式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模（reticle）。
- 光罩（Mask）：當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。
種類
相位移光罩、二元光罩
參考文獻
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