File:Microchip_for_Carbon_Nanotube_Field_Effect_Transistors_fabrication.jpg
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原始檔案 (1,009 × 701 像素,檔案大小:481 KB,MIME 類型:image/jpeg)
摘要
描述Microchip for Carbon Nanotube Field Effect Transistors fabrication.jpg |
English: Scanning Electron Microscopy image of a die with Carbon Nanotubes based Field Effect Transistors to be fabricated. Image obtained during one of the fabrication steps, after hydrofluoric (HF) acid wet etching and SF6 based Inductively Coupled Plasma dry etching steps. Glowing structures in the middle are charged photoresist residues. In this chip design each square test pad represents transistor's source or drain electrodes, across which single-walled Carbon Nanotube will be suspended during the subsequent fabrication stages. Scale: the width of the outermost square test pads is 150 micrometers. SEM image and fabrication by Aidar Kemelbay (NLA, Nazarbayev University), with the help of Dr. Emine Cagin (NTB Buchs, Switzerland) performed at FIRST - Center for Micro- and Nanoscience, ETH Zurich. Photolithography mask design - Dr. Kiran Chikkadi (ETH Zurich, MNS group). |
日期 | |
來源 | 自己的作品 |
作者 | Aidar Kemelbay |
授權條款
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This image was uploaded as part of European Science Photo Competition 2015. |
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12 6 2013
檔案歷史
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日期/時間 | 縮圖 | 尺寸 | 使用者 | 備註 | |
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目前 | 2016年1月8日 (五) 18:34 | 1,009 × 701(481 KB) | Kemelbaydar | User created page with UploadWizard |
檔案用途
全域檔案使用狀況
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詮釋資料
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寬度 | 1,024 px |
---|---|
高度 | 768 px |
壓縮方式 | 未壓縮 |
像素合成 | 調色板 |
方位 | 標準 |
像素數量 | 1 |
水平解析度 | 72 dpi |
垂直解析度 | 72 dpi |
使用軟體 | Adobe Photoshop CS6 (Macintosh) |
檔案修改日期時間 | 2016年1月9日 (六) 00:18 |
色彩空間 | 顏色未校準 |
數位化的日期時間 | 2016年1月8日 (五) 17:44 |
詮釋資料最後修改日期 | 2016年1月9日 (六) 06:18 |
原始文件唯一識別碼 | xmp.did:F87F117407206811871FA5ACE803A7A3 |