180納米製程維基百科,自由的 encyclopedia 180納米製程,又稱0.18微米製程,是半導體製造製程的一個水平,大約於1999年至2000年左右達成。[1][2] 這一製程是由當時領先的半導體公司如英特爾、德州儀器、IBM和台積電所完成的。 一些CPU最初是由這個製程所製造。其中包括英特爾奔騰III處理器。這是第一個溝道長度小於用於光刻的光的波長的製程。
180納米製程,又稱0.18微米製程,是半導體製造製程的一個水平,大約於1999年至2000年左右達成。[1][2] 這一製程是由當時領先的半導體公司如英特爾、德州儀器、IBM和台積電所完成的。 一些CPU最初是由這個製程所製造。其中包括英特爾奔騰III處理器。這是第一個溝道長度小於用於光刻的光的波長的製程。