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垂直顯像SMI
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垂直顯像SMI是1996年在SMI與SPDM的基礎上開發出來的,能在奈米等級上最快分析完整的3D細胞結構的光學顯微鏡,有效的奈米級光學解析度,在解析2D圖像能達到5 nm,而在解析3D圖像能達到40 nm,所以比起以Abbe定律所算出來的物理極限200 nm還要更佳。[1] 恩斯特·阿貝在1873年提出理論上光學顯微鏡的解析度限制假說。
垂直顯像SMI光學顯微鏡是由海德堡大學光學應用與資訊處理博士克里斯托夫克勒梅(英語:Christoph Cremer)所開發出來,集結了定位光學顯微鏡(光學間距精密顯微鏡SPDM, Spectral Precision Distance Microscopy)結構照明設備(空間調整照明設備SMI, Spatially Modulated Illumination)的科技。
自從2008年3月起,許多標準的螢光染劑像是綠色熒光蛋白(GFP)與Alexa螢光染劑可以應用在SPDMphymod (可物理修飾螢光團physically modifiable fluorophores)定位光學顯微鏡上,這種顯微鏡只有單一雷射波長才有適合的光強度能用在奈米圖解上。
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