光刻維基百科,自由的 encyclopedia 微影製程(英語:photolithography 或 optical lithography,中國大陸稱為光刻工藝)是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構,然後通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這裡所說的襯底不僅包含矽晶圓,還可以是其他金屬層、介質層,例如玻璃、SOS中的藍寶石。 此條目沒有列出任何參考或來源。 (2012年3月15日)
微影製程(英語:photolithography 或 optical lithography,中國大陸稱為光刻工藝)是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構,然後通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這裡所說的襯底不僅包含矽晶圓,還可以是其他金屬層、介質層,例如玻璃、SOS中的藍寶石。 此條目沒有列出任何參考或來源。 (2012年3月15日)