石墨层间化合物维基百科,自由的 encyclopedia 石墨层间化合物(Graphite intercalation compound,缩写GIC)又称石墨插层化合物、石墨插层复合物,是由带正电或负电的离子插入被氧化或还原的石墨层间后形成的具有二维层状结构的化合物,通式为MCx·δS。式中M表示插入石墨层间的带电荷离子、S为可能存在的与离子共插层的电中性溶剂分子。[1][2][3][4] 石墨层间化合物KC8的空间填充模型(侧视) 石墨层间化合物KC8的空间填充模型(俯视)
石墨层间化合物(Graphite intercalation compound,缩写GIC)又称石墨插层化合物、石墨插层复合物,是由带正电或负电的离子插入被氧化或还原的石墨层间后形成的具有二维层状结构的化合物,通式为MCx·δS。式中M表示插入石墨层间的带电荷离子、S为可能存在的与离子共插层的电中性溶剂分子。[1][2][3][4] 石墨层间化合物KC8的空间填充模型(侧视) 石墨层间化合物KC8的空间填充模型(俯视)