dry etching

tribromide）是化学式IBr3，由碘和溴形成的互卤化物。 三溴化碘是一种深褐色液体，可溶于酒精和醚类。。 在制造半导体中用作溴化剂和干蚀刻（英语：dry etching）。。 Encarta Dr. Bernd Dill (Hrsg.), Prof. Dr. Fred Robert Heiker (Hrsg

Chemical Etching （页面存档备份，存于互联网档案馆） Technology of wet etching （页面存档备份，存于互联网档案馆） of silicon and semiconductor wafers. Technology of dry etching （页面存档备份，存于互联网档案馆）

gaseous chlorine monoxide」,发表于1971-11-09  US 5200032A,Keiji Shinohara,「Dry etching method」,发表于1993-04-06  钟兴厚，萧文锦，袁启华，娄润和。《无机化学丛书》第六卷，卤素、铜分族、锌分族。北京：科学出版社，1984年。

1419–1426. ISSN 0008-6223. doi:10.1016/s0008-6223(96)00093-0.  Wet chemical etching. （页面存档备份，存于互联网档案馆） umd.edu Wolf, S.; R.N. Tauber. Silicon processing for

硝酸酯来制备，二者与乙腈反应会得到乙酰胺结构，碱性水解得到金刚烷胺： 未经官能团修饰的金刚烷本身少有应用，可以用于聚合物或干法蚀刻（英语：dry etching）模具。 固态NMR光谱中，金刚烷可以作为化学位移值参考的标准。 在染料激光器中，金刚烷可用于延长增益介质的使用寿命；它不能在大气中被光电离，因为它的吸收谱带在真空紫外区。