Photolithography

電影膠片格式（英语：List of film formats） 標準廣告尺寸 電腦顯示標準 通用解析度 像素長寬比 微影製程（英语：Photolithography）：蝕刻的長寬比例 高深寬比微結構技術（英语：HARMST） 輪胎代號（英语：Tire code） 渦輪增壓器葉輪尺寸 機翼展弦比 透鏡像散

DA, Li J, Ivan M, Zimmerman P. "157 nm pellicles (thin films) for photolithography: mechanistic investigation of the VUV and UV-C photolysis of fluorocarbons"

1186/1860-5397-2-20.  Cornell NanoScale Science & Technology Facility. CNF - Photolithography Resist Processes and Capabilities. [2008-01-29]. （原始内容存档于2019-09-07）

光刻工艺（英語：photolithography 或 optical lithography，台湾称为微影製程）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含矽晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。

網版 P3 Photogravure 照相凹版 P4 Rotagravure 輪轉照相凹版 P5 Collotype 珂羅版 P6 Photolithography 照相平版 P7 Offset 平版 P8 Photograph 照相版 孔版： S1 Silkscreen 絲網版 S2 Mimeography