Ion beam

射束（英語：Beam），是一道粒子或能量的流束，較細的射束（beam）也被稱為射線（ray）。 帶電粒子束（Charged particle beam（英语：Charged particle beam）） 陰極射線（Cathode ray），或稱電子射束（Electron beam） 離子射束（Ion beam（英语：Ion

离子源是产生原子和分子离子的设备。离子源被用于质谱仪，光学发射光谱仪，粒子加速器，离子注入机和离子发动机形成离子。 离子束（英语：Ion beam） Bernhard Wolf. Handbook of Ion Sources. CRC Press. 31 August 1995 [2015-11-18]. ISBN 978-0-8493-2502-1

电子束诱导沉积中的电子束往往由扫描电子显微镜或扫描透射电子显微镜提供，而离子束诱导沉积（IBID）则用聚焦离子束（英语：Focused ion beam）代替了电子束。前体材料一般是液体或固体；在沉积实验前，前体材料会被汽化或升华，之后在实验中以准确控制的速率进入扫描电镜所在的高真空腔。固态的

J．蒂斯於1971年成立，總部設於美國俄勒岡州希爾斯伯勒，主要設計與生產穿透式電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡以及聚焦離子束（英语：Focused ion beam）設備。1973年起公司名稱簡稱為FEI公司。1978年研究場發射顯微鏡（英语：Field-emission microscopy）及電子源的科學家喬恩．奧爾洛夫（英语：Jon

是帶電粒子。電漿是原子核和電子分開的帶電粒子的集合體，但也可以是含有大量帶電粒子的氣體。電漿因為性質和固體、液體和氣體都不同，所以被稱為物質的第四態。 在極區常見的極光也是一種電漿，詳見極光。 基本粒子 粒子列表 离子束（英语：Ion beam） 電荷載子 [1] （页面存档备份，存于互联网档案馆）