三氟化镓

三氟化镓（GaF₃）是一种无机化合物。这种白色固体的熔点超过1000°C，但是在950°C左右就会升华。它具有FeF₃型结构，镓原子为6配位。^[1]三氟化镓可由F₂或HF与Ga₂O₃反应制得，而(NH₄)₃GaF₆的热分解也可以制得它。^[2]三氟化镓几乎不溶于水。^[2]蒸发GaF₃和HF的混合溶液可以获得三水合物GaF₃·3H₂O，后者受热时水解形成碱式盐GaF₂(OH)。^[2]三氟化镓与无机酸反应生成剧毒的氢氟酸。

轴向结构图	沿c轴结构图	Ga的配位构型	F的配位构型

三氟化镓
别名	gallium trifluoride
识别
CAS号	7783-51-9  Y
PubChem	82211
ChemSpider	74191
SMILES	F[Ga](F)F
InChI	1/3FH.Ga/h3*1H;/q;;;+3/p-3
InChIKey	WXXZSFJVAMRMPV-DFZHHIFOAM
性质
化学式	GaF3
摩尔质量	126.718 g·mol⁻¹
外观	白色粉末
密度	4.47 g/cm3
熔点	800 °C
沸点	1000°C
溶解性（水）	0.0002 g/100 mL
结构
晶体结构	三方晶系，hR24
空间群	R-3c, No. 167
危险性
欧盟分类	未列出
NFPA 704	0 3 2
若非注明，所有数据均出自标准状态（25 ℃，100 kPa）下。

参考资料

1. Greenwood, N. N.; Earnshaw, A. Chemistry of the Elements 2nd. Oxford:Butterworth-Heinemann. 1997. ISBN 0-7506-3365-4.
2. Anthony John Downs, (1993), Chemistry of Aluminium, Gallium, Indium, and Thallium, Springer, ISBN 978-0-7514-0103-5

扩展阅读

• Barrière, A.S.; Couturier, G.; Gevers, G.; Guégan, H.; Seguelond, T.; Thabti, A.; Bertault, D. Preparation and characterization of gallium(III) fluoride thin films. Thin Solid Films. 1989, 173 (2): 243. doi:10.1016/0040-6090(89)90140-5.