Remove ads
HTCVD-metoden (High Temperature Chemical Vapor Deposition) är en metod utvecklad av forskare på Linköpings universitet i samarbete med ABB. Metoden går ut på att tillverka höggradigt ren kiselkarbid genom att vid hög temperatur sammanföra materialet i gasform. Tillverkare blir företaget Norstel AB och fabriken är placerad i Norrköping.
I processen används kisel i form av silan, kolvätet etan, klorgas och väteklorid. Tillväxten av materialet sker vid 2000°C.
Höggradigt ren kiselkarbid används där man behöver ett halvledarmaterial som tål höga spänningar, strömstyrkor och frekvenser. Materialet används bland annat i högspänningsanläggningar och i mobiloperatörernas basstationer.
Man tror att kiselkarbid i denna nya form kommer att bli ett basmaterial inom elektronikindustrin. Genom sin höga renlighet kommer kiselkarbiden att medverka till miljövinster eftersom materialet effektiviserar elektroniken och energiöverföringarna.
Remove ads
Wikiwand in your browser!
Seamless Wikipedia browsing. On steroids.
Every time you click a link to Wikipedia, Wiktionary or Wikiquote in your browser's search results, it will show the modern Wikiwand interface.
Wikiwand extension is a five stars, simple, with minimum permission required to keep your browsing private, safe and transparent.
Remove ads