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Máscara N95
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Uma máscara N95, padrão N95, respirador N95, máscara PFF2 ("Peça Facial Filtrante tipo 2" no Brasil),[1] ou máscara FFP2 (Filtering FacePiece type 2 na União Européia),[2] é uma máscara facial respiratória com filtro de partículas não baseada em óleo que atende ao padrão N95, da classificação de filtragem de ar do Instituto Nacional de Segurança e Saúde Ocupacional dos EUA (NIOSH), isto é, filtram pelo menos 95% das partículas transportadas pelo ar, embora não resistente ao óleo como o padrão P95 e resistente não à gases ou vapores,[3] pode ser utilizadas em um turno de oito horas e sem interferência do suor na eficiência do filtro,[1] sendo este o filtro de partículas mais comumente utilizado.[4]
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A máscara N95 é considerada funcionalmente equivalente a certos respiradores regulamentados sob jurisdições fora dos EUA, como os seguintes padrões: FFP2/PFF2 (do inglês Filtering Face Piece type 2, em português Peça Facial Filtrante tipo 2)[1][2] da União Europeia e brasileira, KN95 da China, P2 da Austrália e Nova Zelândia, 1ª classe da Coréia e DS2 do Japão.[5] No entanto, critérios ligeiramente diferentes são usados para certificar seu desempenho, como a eficiência do filtro, o agente de teste e a vazão e a queda de pressão permitida.[6][7] Na década de 1970, o Bureau of Mines e o NIOSH desenvolveram padrões para respiradores descartáveis, e a primeira máscara N95 descartável (para poeira) foi desenvolvida pela 3M e foi aprovada em 1972.[8]
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Em 1992, o filtro de máscara N95 foi inventado pelo cientista taiwanês-americano Peter Tsai e sua equipe.[9][10] A máscara N95 requer uma malha fina de fibras de polímero sintético, também conhecida como tecido não malhado de polipropileno,[11] que é produzido através de um processo altamente especializado chamado sopro por fusão que forma a camada de filtragem interna que filtra as partículas perigosas.[12] O material é composto por cargas positivas e negativas, atraindo partículas (como poeira, bactérias e vírus) e bloqueando pelo menos 95% delas por polarização antes que as partículas passem pela máscara.[9][10][13] A tecnologia desenvolvida pelo Professor Tsai foi patenteada nos EUA em 1995.[10][13]