Chemical vapor deposition

(Electroplating), ריבוץ מותז (Sputter deposition), ריבוץ אדים פיזי (Physical vapor deposition) וריבוץ אדים כימי (Chemical vapor deposition). ערך מורחב – פוטוליתוגרפיה

פוטוליתוגרפיה

בחומר. שתיים מהנפוצות הן ריבוץ אדים כימי (Chemical Vapor Deposition) וריבוץ אדים פיזי (Physical Vapor Deposition). ניקוי והכנה (Cleaning) – בשלב זה מנקים

סילן

סילן מתפרק לצורן ולמימן ולכן משתמשים בו לייצור צורן נקי בשיטת (Chemical Vapor Deposition (CVD. בתעשייה מפיקים סילן מצורן בתהליך דו שלבי. בשלב הראשון מגיבים

NEMS

דיווחו על גרסה פשוטה יותר של התהליך אשר לא דרש תהליכי השקעה (CVD- chemical vapor deposition) ליצירת שכבות. תהליך זה גם עסק באיכול יבש כשלב עיבוד סופי, שהקל

יהלום מלאכותי

גידול יהלומים בתנאי לחץ אטמוספירי וטמפרטורה גבוהים; CVD (ר"ת Chemical Vapor Deposition) – שיטת הריבוד הפלזמתי (שיקוע כימי). מיון ראשוני של יהלומים בין