Triméthylsilane

Le triméthylsilane est un composé chimique de formule SiH(CH₃)₃. Il s'agit d'un gaz incolore à l'odeur douceâtre et nauséeuse, très inflammable, susceptible de s'enflammer spontanément en présence d'impuretés et formant des mélanges explosifs avec l'air. Il peut être produit en réduisant le chlorure de triméthylsilyle SiCl(CH₃) avec un réducteur approprié, comme l'aluminohydrure de lithium LiAlH₄ :

4 SiCl(CH₃) + LiAlH₄ ⟶ 4 SiH(CH₃)₃ + LiCl + AlCl₃.

Triméthylsilane
Structure du triméthylsilane
Identification
Nom UICPA	triméthylsilane
No CAS	993-07-7
No ECHA	100.012.366
No CE	213-603-0
PubChem	70435
SMILES	C[SiH](C)C PubChem, vue 3D
InChI	Std. InChI : vue 3D InChI=1S/C3H10Si/c1-4(2)3/h4H,1-3H3 Std. InChIKey : PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N
Apparence	gaz incolore à l'odeur douceâtre et nauséeuse
Propriétés chimiques
Formule	C3H10Si  [Isomères]
Masse molaire[1]	74,197 ± 0,003 4 g/mol C 48,56 %, H 13,58 %, Si 37,85 %,
Propriétés physiques
T° fusion	−135,89 °C[2]
T° ébullition	6,7 °C[2]
Masse volumique	0,635 g·cm-3[2] (liquide à l'ébullition)
T° d'auto-inflammation	235 °C[2]
Pression de vapeur saturante	156,9 kPa[2] à 20 °C
Précautions
SGH[2]
Danger H220, H280, P210, P377, P381 et P403 H220 : Gaz extrêmement inflammable H280 : Contient un gaz sous pression ; peut exploser sous l'effet de la chaleur P210 : Tenir à l’écart de la chaleur/des étincelles/des flammes nues/des surfaces chaudes. — Ne pas fumer. P377 : Fuite de gaz enflammé : Ne pas éteindre si la fuite ne peut pas être arrêtée sans danger. P381 : Éliminer toutes les sources d’ignition si cela est faisable sans danger. P403 : Stocker dans un endroit bien ventilé.
Transport[2]
23    3161    Code Kemler : 23 : gaz inflammable Numéro ONU : 3161 : GAZ LIQUÉFIÉ INFLAMMABLE, N.S.A. Classe : 2.1 Étiquette : 2.1 : Gaz inflammables (correspond aux groupes désignés par un F majuscule); Emballage : -
Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire.
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Il peut être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le dépôt de diélectriques ou de barrières de diffusion (en) par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)^[3].

Notes et références

1. Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
2. Entrée « Trimethylsilane » dans la base de données de produits chimiques GESTIS de la IFA (organisme allemand responsable de la sécurité et de la santé au travail) (allemand, anglais), accès le 16 décembre 2012 (JavaScript nécessaire)
3. (en) Sheng-Wen Chen, Yu-Sheng Wang, Shao-Yu Hu, Wen-Hsi Lee, Chieh-Cheng Chi et Ying-Lang Wang, « A Study of Trimethylsilane (3MS) and Tetramethylsilane (4MS) Based α-SiCN:H/α-SiCO:H Diffusion Barrier Films », Materials, vol. 5, n^o 3,‎ mars 2012, p. 377-384 (PMID 28817052, PMCID 5448926, DOI 10.3390/ma5030377, Bibcode 2012Mate....5..377C, lire en ligne)

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