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El proceso LIGA es un proceso utilizado para la fabricación de microsistemas, desarrollado hacia fines de los años 1970 en Kernforschungszentrum Karlsruhe (KfK). Este proceso originalmente se desarrolló en los cuadros de trabajo sobre la separación de los isótopos de uranio. La sigla "LIGA" proviene del alemán. Es una abreviación para "Röntgenlithographie, Galvanoformung, Abformung", que representan las diferentes etapas de este proceso:
Este procedimiento permite fabricar microestructuras relativamente gruesas (hasta 1mm de espesor) en series pequeñas o medianas. Se puede explotar no solamente con el silicio, pero también y sobre todo con muchos materiales para realizar microestructuras 3D como metales, cerámicos, y también de los vidrios y polímeros lo que amplía considerablemente el campo de aplicación de los MEMS. En este método el material constitutivo de la microestructura va a ser depositado solamente sobre las zonas donde se construirá. A continuación el molde se disuelve químicamente. Se utilizan algunas polímeros fotosensibles para la realización de los moldes según un método fotolitográfico clásico (pero invertido puesto que el polímero desempeña el papel fotoresistivo negativo).
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