Ionenstrahllithografie
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Die Ionenstrahllithografie, oftmals abgekürzt Ionenlithografie, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur Herstellung einer strukturierten dünnen Schicht, die als Opferschicht für nachfolgende Abscheidungs-, Ätzungs- und Implantationsprozesse genutzt wird (vgl. Fotolithografie). Das Verfahren bildet zusammen mit der sehr ähnlichen Elektronenstrahllithografie die Gruppe der Teilchenstrahllithografien.