Fitxer:Photolithography_etching_process.svg
From Wikipedia, the free encyclopedia
![Fitxer:Photolithography etching process.svg](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/b/b0/Photolithography_etching_process.svg/120px-Photolithography_etching_process.svg.png)
Mida d'aquesta previsualització PNG del fitxer SVG: 120 × 600 píxels. Altres resolucions: 48 × 240 píxels | 96 × 480 píxels | 153 × 768 píxels | 204 × 1.024 píxels | 409 × 2.048 píxels | 512 × 2.560 píxels.
Fitxer original (fitxer SVG, nominalment 512 × 2.560 píxels, mida del fitxer: 8 Ko)
![]() | Aquest fitxer i la informació mostrada a continuació provenen del dipòsit multimèdia lliure Wikimedia Commons.![]() |
![]() |
Aquest fitxer SVG inclou text encapsulat que es pot traduir al vostre idioma utilitzant un editor que admeti SVG, un editor de text o l'eina de traducció de SVG. Per a més informació vegeu l'ajuda de traducció de fitxers SVG. |
Resum
DescripcióPhotolithography etching process.svg |
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale. |
Font | Treball propi |
Autor | Cmglee |
Altres versions |
|
Llicència
Jo, el titular dels drets d'autor d'aquest treball, el public sota les següents llicències:
![w:ca:Creative Commons](https://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/7/79/CC_some_rights_reserved.svg/90px-CC_some_rights_reserved.svg.png)
![reconeixement](https://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/1/11/Cc-by_new_white.svg/24px-Cc-by_new_white.svg.png)
![compartir igual](https://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/d/df/Cc-sa_white.svg/24px-Cc-sa_white.svg.png)
Aquest fitxer està subjecte a la llicència de Creative Commons Reconeixement i Compartir Igual 3.0 No adaptada.
- Sou lliure de:
- compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
- adaptar – fer-ne obres derivades
- Amb les condicions següents:
- reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
- compartir igual – Si modifiqueu, transformeu, o generareu amb el material, haureu de distribuir les vostres contribucions sota una llicència similar o una de compatible com l'original
![]() |
S'autoritza la còpia, la distribució i la modificació d'aquest document sota els termes de la llicència de documentació lliure GNU versió 1.2 o qualsevol altra versió posterior que publiqui la Free Software Foundation; sense seccions invariants, ni textos de portada, ni textos de contraportada. S'inclou una còpia d'aquesta llicència en la secció titulada GNU Free Documentation License.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue |
Podeu seleccionar la llicència que vulgueu.
Llegendes
Afegeix una explicació d'una línia del que representa aquest fitxer
Elements representats en aquest fitxer
representa l'entitat
Algun valor sense element de Wikidata
image/svg+xml
Historial del fitxer
Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.
Data/hora | Miniatura | Dimensions | Usuari/a | Comentari | |
---|---|---|---|---|---|
actual | 10:27, 17 abr 2022 | ![]() | 512 × 2.560 (8 Ko) | Djiboun | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr. |
15:18, 20 juny 2020 | ![]() | 512 × 2.560 (5 Ko) | Mega deppa | Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC) | |
15:16, 20 juny 2020 | ![]() | 512 × 2.560 (8 Ko) | Mega deppa | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja. | |
18:52, 9 oct 2011 | ![]() | 512 × 2.560 (5 Ko) | Cmglee | Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg. | |
00:03, 1 oct 2011 | ![]() | 512 × 2.560 (5 Ko) | Cmglee | Merge develop and remove exposed photoresist. | |
00:46, 30 set 2011 | ![]() | 512 × 2.926 (5 Ko) | Cmglee | Fix text alignment. | |
00:39, 30 set 2011 | ![]() | 512 × 2.926 (5 Ko) | Cmglee | Fix text alignment. | |
00:37, 30 set 2011 | ![]() | 512 × 2.926 (5 Ko) | Cmglee | Fix text alignment. | |
00:30, 30 set 2011 | ![]() | 512 × 3.413 (5 Ko) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date |
Ús del fitxer
La pàgina següent utilitza aquest fitxer:
Ús global del fitxer
Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:
- Utilització a ar.wikipedia.org
- Utilització a en.wikipedia.org
- Utilització a en.wikibooks.org
- Utilització a fa.wikipedia.org
- Utilització a fr.wikipedia.org
- Utilització a id.wikipedia.org
- Utilització a ja.wikipedia.org
- Utilització a www.wikidata.org
Metadades
Aquest fitxer conté informació addicional, probablement afegida per la càmera digital o l'escàner utilitzat per a crear-lo o digitalitzar-lo. Si s'ha modificat posteriorment, alguns detalls poden no reflectir les dades reals del fitxer modificat.
Títol abreujat | Dry-etching in photolithography |
---|---|
Títol de la imatge | Simplified illustration of dry-etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication, drawn by CMG Lee. Note: Not to scale. |
Amplada | 100% |
Alçària | 100% |