أكسدة حرارية

الأكسدة الحرارية ^[1] هي عملية صناعية في مجال تشطيب سطوح الرقائق السيليكونية تهدف إلى تشكيل غشاء رقيق من ثنائي أكسيد السيليكون، وذلك بإجبار مؤكسد على الانتشار في الرقاقة عند درجات حرارة مرتفعة.

أفران الأكسدة الحرارية في إحدى المختبرات

.

تجرى عملية الأكسدة الحرارية عند درجات حرارة تتراوح بين 800 °س إلى 1200 °س، ويمكن أن تجرى إما باستخدام بخار الماء مرتفع النقاوة أو باستخدام الأكسجين الجزيئي.

${\displaystyle {\rm {Si+2H_{2}O\rightarrow SiO_{2}+2H_{2\ (g)}}}}$

${\displaystyle {\rm {Si+O_{2}\rightarrow SiO_{2}\,}}}$

يمكن أن يستقرأ معدل نمو طبقة ثنائي أكسيد السيليكون على رقاقة السيليكون باستخدام نموذج ديل-غروف (Deal–Grove model).^[2]

طالع أيضاً

• تصنيع دقيق
• أكسدة موضعية للسيليكون

المراجع

1. "قاموس المعاني". مؤرشف من الأصل في 2021-05-04.
2. Liu، M.؛ وآخرون (2016). "Two-dimensional modeling of the self-limiting oxidation in silicon and tungsten nanowires". Theoretical and Applied Mechanics Letters. ج. 6 ع. 5: 195–199. DOI:10.1016/j.taml.2016.08.002.

• بوابة إلكترونيات
• بوابة الكيمياء