曝光機(英語:Aligner),是積體電路製造的关键設備。從發展歷史來看一共五種機型,分别為接觸式(contact),接近式(proximity),步進式(stepper),掃描式(scanner),重複式(repeat)。截至2023年,12吋以上的晶圓大多使用掃描式對準機來做曝光,其晶圓產能也是五種機型內最佳的。
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