フォトリソグラフィウィキペディア フリーな encyclopedia フォトリソグラフィ(英語: photolithography)は、感光性の物質を塗布した物質の表面を、パターン状に露光(パターン露光、像様露光などともいう)することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術。主に、集積回路、プリント基板、印刷版、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられる。 この記事は検証可能な参考文献や出典が全く示されていないか、不十分です。(2016年11月) 半導体素子製造におけるフォトリソグラフィ。レジストの感光を防ぐ為に波長の長い黄色い照明を使用し、クリーンルーム内で行われる。
フォトリソグラフィ(英語: photolithography)は、感光性の物質を塗布した物質の表面を、パターン状に露光(パターン露光、像様露光などともいう)することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術。主に、集積回路、プリント基板、印刷版、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられる。 この記事は検証可能な参考文献や出典が全く示されていないか、不十分です。(2016年11月) 半導体素子製造におけるフォトリソグラフィ。レジストの感光を防ぐ為に波長の長い黄色い照明を使用し、クリーンルーム内で行われる。